I Love Riccio Delight Milk - Nourishing and hydrating mask for waves and fine curls 250 ml

Hydratovat, vyživit, dodat objem a hlavně nezatížit! Potřebují tvé vlny nebo kudrliny kombinaci přesně těchto tří účinků? Pak jsi tu správně. Lehoučká maska na vlasy od I Love Riccio navíc na tvých vlasech nezanechá žádné zbytky a vlasy zůstanou krásně elastické a pružné.

Vyzkoušej působení přírodních látek, které tvé vlasy od kořínků vyživí, zregenerují a navíc ochrání před dalším vysušováním. Přípravek je vyroben pro jemné vlasy s tendencí vlnit se nebo kudrliny, které nejsou příliš husté.
Jak se maska I Love Riccio Delight Milk používá?
Delight Milk se dá použít jako klasický oplachový kondicionér, pokud ho necháš působit po dobu 2-3 minut. Pokud produkt necháš působit déle, zhruba 15 minut, poslouží ti maska jako výživná hloubková kúra. Použij ji jako druhý krok po umytí vlasů šamponem nebo cowashem. Do vlhkých pramínků ji rovnoměrně rozděl pomocí prstů po celé délce, nech působit a následně opláchni vodou.
Je maska I Love Riccio Delight Milk vhodná i pro mě?
Pro všechny nositele jemných vln nebo kudrlin, typově od 2A po 3A, je maska přímo ideálním pomocníkem pro hydrataci a výživu.
Složení
Aqua (water), Myristyl Alcohol, Caprylic/Capric Triglyceride, Propylene Glycol, Cetearyl Alcohol, Behentrimonium Methosulfate, Cetyl Alcohol, Butylene Glycol, Hydrolyzed Wheat Protein, Tocopheryl Acetate, Polyquaternium-10, Macadamia Ternifolia Seed Oil, Argania Spinosa Kernel Oil, Simmondsia Chinensis (jojoba) Seed Oil, Parfum (fragrance), Caprylyl Glycol, Phenethyl Alcohol, Saccharomyces/Magnesium Ferment, Saccharomyces/Copper Ferment, Saccharomyces/Zinc Ferment, Saccharomyces/Silicon Ferment, Saccharomyces/Iron Ferment, Leuconostoc/Radish Root Ferment Filtrate, Citric Acid, ci 19140, ci 28440, ci 16255, ci 73015
Tečka za vším
Tuto masku můžeš klidně používat i v případě, že máš vlasy více strukturované jako alternativu, kterou vystřídáš se svou oblíbenou intenzivnější maskou. Tvé vlny/kudrliny se tak nebudou nepřiměřeně zatěžovat.